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本发明提供一种多波长千瓦级半导体激光加工光源系统，该系统包括两个均发出e光但波长不同的半导体激光器叠阵，两个半导体激光器叠阵的出光面平齐或平行，在这两个半导体激光器叠阵整体的出光方向设置有双折射晶体，所述的双折射晶体对o光透射，对e光折射；...
该专利属于西安炬光科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安炬光科技有限公司授权不得商用。

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