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本发明公开一种笔形海绵掉落探测装置，化学机械研磨设备中设有第二阶段清洁器，该第二阶段清洁器包含用于放置晶圆的平台，以及设置在平台一侧的机械臂，机械臂的端部设有固定器，笔形海绵设置在该固定器中；本探测装置包含：固定支架，其固定在机械臂的端部；...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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