温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型涉及镀膜装置领域，尤其是涉及一种真空镀膜装置，用于对基板（5）连续磁控溅射镀膜，包括卧式隧道状结构的真空腔体（1），采用镂空的托盘（2）传送方式，使基板（5）待镀膜表面裸露向下，阴极（4）发生磁控溅射的表面位于所述真空腔体（1）内...
该专利属于金弼所有，仅供学习研究参考，未经过金弼授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。