本实用新型专利技术涉及镀膜装置领域，尤其是涉及一种真空镀膜装置，用于对基板（5）连续磁控溅射镀膜，包括卧式隧道状结构的真空腔体（1），采用镂空的托盘（2）传送方式，使基板（5）待镀膜表面裸露向下，阴极（4）发生磁控溅射的表面位于所述真空腔体（1）内且向上，对托盘（2）镂空区域裸露的基板（5）下表面磁控溅射镀膜，所述托盘（2）两侧由成对的传动辊（3）分别支撑，带动所述托盘（2）沿着所述真空腔体（1）长度方向移动。该镀膜装置结构合理，方便操作，既提高了生产效率，又提高了膜层品质。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术涉及镀膜装置领域，尤其是涉及一种真空镀膜装置，用于对基板（5）连续磁控溅射镀膜，包括卧式隧道状结构的真空腔体（1），采用镂空的托盘（2）传送方式，使基板（5）待镀膜表面裸露向下，阴极（4）发生磁控溅射的表面位于所述真空腔体（1）内且向上，对托盘（2）镂空区域裸露的基板（5）下表面磁控溅射镀膜，所述托盘（2）两侧由成对的传动辊（3）分别支撑，带动所述托盘（2）沿着所述真空腔体（1）长度方向移动。该镀膜装置结构合理，方便操作，既提高了生产效率，又提高了膜层品质。【专利说明】一种真空镀膜装置
本技术涉及镀膜装置领域，尤其是涉及一种真空镀膜装置。
技术介绍
真空镀膜装置广泛用于制造显示器用透明导电膜和\或功能膜玻璃、光学用功能膜玻璃等，这些装置已经发展了几十年，从早期的简单装置发展到目前大型自动化装置。显示器用透明导电膜玻璃镀膜装置大部分是采用立式连续磁控溅射镀膜线，其真空腔体往往是长度几十米的真空隧道，宽度不足半米，而高度一般在一米以上，玻璃基板竖立挂在专用传送车(Carrier,—种挂玻璃的小车,竖立的长方形结构,底部与传动棍接触)上一同在传送辊上移动，所以叫立式镀膜线。在真空里即使极轻微的羽毛都和钢球一样按自由落体方式落下，所以玻璃基板竖立起来传送，是为了最大限度地减少真空腔体内部尘埃落到其表面，减小尘埃对镀膜玻璃品质的影响。同时为了导电膜的性质最佳化还要加热玻璃基板，一般设有加热器。阴极放置在真空腔体侧板上，其发生磁控溅射的表面朝向真空一侧且与腔体侧板平行，当挂有玻璃基板的传送车移动到阴极位置时，阴极靶材表面溅射出来的原子附着在玻璃上，形成透明导电膜和其它功能膜。目前，大多数液晶显示器、有机发光显示器、电阻式触摸屏、电容式触摸屏都用ITO (银锡合金氧化物)镀膜玻璃，而该镀膜玻璃目前皆采用真空镀膜装置中的立式连续磁控溅射镀膜线生产。然而近期研发的未来将大发展的所谓OGS (One Glass Solution)电容式触摸屏玻璃的ITO镀膜遇到了难题。以往的ITO玻璃都是较大的矩形玻璃，比如370mmX 470mm到400mmX 500mm矩形玻璃，在传统的立式连续磁控溅射镀膜线上镀膜时每个传送车上挂此类玻璃基板6片到8片，并且按产能要求以40秒至90秒的节拍完成一个传送车的挂片和卸片，这对两名熟练操作员是可行的，然而在这种传统镀膜装置上的同样大的传送车上挂OGS玻璃基板就相当困难。OGS玻璃大多用在智能手机上，它是大小在40mmX IOOmm到60mmX 150mm之间、角部已经倒圆滑、边部精细研磨成型的小玻璃，即使OGS玻璃用在掌上电脑上也不过185mmX 240mm左右，按照推算这种小玻璃在传统镀膜设备传送车上可挂的数量在42片到480片之多，目前在传统装置上使用的“四个凹槽固定”方式很难把这么多的玻璃基板挂上，40秒至90秒的节拍也无法实现。所谓“四个凹槽固定”方式是这样的，约1300mm高、1500mm长的竖立的平面状传送车上设置多个横梁，下横梁上设两个向上的凹槽，上横梁上设两个向下的与弹片连接的凹槽，玻璃基板的下边插入下凹槽，玻璃基板的上边插入上凹槽，每片玻璃基板至少需要上下各两个凹槽，靠下凹槽的支撑和上凹槽的弹性下压竖直挂上玻璃基板。假如是480片玻璃基板就至少需要1920个凹槽，这种结构上很麻烦，操作上困难，节拍上延长很多，品控上带来难题。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种新型的真空镀膜装置，解决上述传统立式连续磁控溅射镀膜线不能适应高效加工OGS镀膜玻璃的难题，不仅提高了 OGS玻璃镀膜的高效性与合理性，同时又能保证真空腔体内的尘埃不会落在玻璃待镀膜表面上。本技术解决技术问题所采用的技术方案是:一种真空镀膜装置，用于对基板连续磁控溅射镀膜，包括内侧长度与宽度大于高度的卧式隧道状结构的真空腔体、多个水平置于所述真空腔体内的矩形托盘、分别位于所述托盘两侧用于支撑所述托盘且带动所述托盘沿着所述真空腔体长度方向移动的成对传动辊以及设置在所述真空腔体底部的磁控溅射阴极，所述托盘中间区域镂空为矩形，使落于所述托盘上的基板待镀膜表面向下裸露，所述阴极发生磁控溅射的表面位于所述真空腔体内且向上，对所述托盘镂空矩形区域裸露的基板下表面磁控溅射镀膜。在本技术的真空镀膜装置中，所述传动辊包括密闭地穿过所述真空腔体两侧壁的传动轴、与所述传动轴在所述真空腔体内部连接的圆柱辊以及与所述传动轴在所述真空腔体外部连接的皮带轮，所述传动轴与所述圆柱辊采用易拆卸结构紧固连接，所述托盘的两端分别落在两侧所述圆柱辊上。在本技术的真空镀膜装置中，所述传动辊在所述真空腔体内的数量至少15对，并且沿着所述真空腔体长度方向间隔设置。在本技术的真空镀膜装置中，所述托盘包括金属板，所述金属板的四周设有加强筋，所述金属板中间区域至少镂空出一个与所述金属板周边分别平行的矩形，距离每个所述镂空矩形四个边缘2毫米至20毫米处设有定位条。在本技术的真空镀膜装置中，所述托盘的加强筋由所述金属板的四周边折弯90度或90度以上构成，或者由垂直地焊接于所述金属板四周且距离边缘2毫米至10毫米的长方形金属条构成。在本技术的真空镀膜装置中，所述托盘的定位条由水平地粘接于所述金属板上表面的条状金属或条状聚四氟乙烯或条状聚酰亚胺构成。在本技术的真空镀膜装置中，所述托盘的金属板是不锈钢板、铜合金板、铝合金板、钛合金板、镍合金板中的任一种。在本技术的真空镀膜装置中，所述真空腔体的内部宽度不小于0.8米，高度不大于0.5米。在本技术的真空镀膜装置中，所述真空腔体分为进口室、进口缓冲室、镀膜室、出口缓冲室和出口室五个腔室，所述真空腔体两端以及各腔室之间设有阀门。在本技术的真空镀膜装置中，还包括加热器，所述加热器设置在所述阴极对应区间真空腔体内的顶部以及对应区间以外真空腔体内的顶部和底部。实施本技术提供的真空镀膜装置，由于将隧道式的真空腔体由竖立变为横臣卜，摒弃了传统镀膜装置利用传送车以及“四个凹槽固定”方式，改为托盘托住玻璃传送方式，靠托盘的支撑力和玻璃的自重力固定的方式，这时玻璃只要轻轻平放在托盘上就可固定，不需要麻烦地插入到四个凹槽内固定，使操作变得更简便，生产效率得到提升，膜层品质得到提闻。其中托盘设计成镂空结构，OGS小玻璃的两个边分别搭在镂空矩形的对应边上，该OGS玻璃待镀膜的表面朝下，而阴极由传统的安装在真空腔体的侧部改为安装在底部，并且阴极的磁控溅射面朝上，这样玻璃的大部分下表面裸露在阴极的磁控溅射范围内，实现正常的镀膜，同时还保证了真空腔体内部的尘埃无法附着于玻璃待镀膜表面，保证了基板镀膜的品质。传动机构由底部辊子支撑传送车(Carrier)改为两侧成对的传动辊支撑托盘两边，以适应卧式结构，保证托盘镂空区域的正下方没有阻碍溅射原子飞行的传动机构部件，保证玻璃无阻挡地裸露出必须镀膜的区域，实现均匀镀膜。在OGS小片玻璃上靠四周边的一部分区域内没有镀上ITO也是可行的，所以这部分区域被托盘遮住是允许的。【专利附图】【附图说明】图1为本技术真空镀膜装置实施例的主视图；图2为本技术真空镀膜装置实施例的俯视图；图3为图1中沿本技术真空镀膜装置实施例A-A本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种真空镀膜装置，用于对基板（5）连续磁控溅射镀膜，其特征在于：包括内侧长度与宽度大于高度的卧式隧道状结构的真空腔体（1）、多个水平置于所述真空腔体（1）内的矩形托盘（2）、分别位于所述托盘（2）两侧用于支撑所述托盘（2）且带动所述托盘（2）沿着所述真空腔体（1）长度方向移动的成对的传动辊（3）以及设置在所述真空腔体（1）底部的磁控溅射阴极（4），所述托盘（2）中间区域镂空为矩形（2.3），使落于所述托盘（2）上的基板（5）待镀膜表面向下裸露，所述阴极（4）发生磁控溅射的表面位于所述真空腔体（1）内且向上，对所述托盘（2）镂空矩形（2.3）区域裸露的基板（5）下表面磁控溅射镀膜。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：金弼，
申请(专利权)人：金弼，
类型：实用新型
国别省市：
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