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本发明公开一种隔离沟槽制造方法及发光装置，该半导体结构的隔离沟槽制造方法，半导体结构具有一外延结构设置于一外延基板上，隔离沟槽的制造方法包括：形成一第一凹槽于外延结构；设置一第一硬涂层于外延结构上表面及第一凹槽的内表面，其中位于外延结构上表...该专利属于奇力光电科技股份有限公司;佛山市奇明光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过奇力光电科技股份有限公司;佛山市奇明光电有限公司授权不得商用。