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本发明提供离子束照射装置和离子束照射装置的运转方法，能对离子束照射装置进行清洗，并且能显著提高装置的运转率。所述离子束照射装置包括：基板输送部（102），在盒（7）和处理室（5）之间对未处理的基板与离子束照射处理过的基板进行多次基板更换作业...
该专利属于日新离子机器株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日新离子机器株式会社授权不得商用。

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