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一种用于蚀刻腔室部件的填充聚合物组成。本发明揭示了一种具有改良抗等离子体性的填充聚合物组成。该组成包括分散于聚合物基质的粒子填充料。该粒子填充料可为五氧化二铌（Nb2O3）、三氟化钇（YF3）、氮化铝（AlN）、碳化硅（SiC）或四氮化三硅...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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