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本发明公开了一种全自动兆声波半导体晶圆清洗设备，其利用兆声波发生器产生的兆声波进入到设置在腔体中的兆声清洗机构，从进水端进入的洁净DI水会对应带上超声波能量，将正在清洗盘上旋转的工件上的污染物击穿气化；同时利用二流体清洗机构进入洁净DI水与...
该专利属于深圳市凯尔迪光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市凯尔迪光电科技有限公司授权不得商用。

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