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本发明实施例公开了一种薄膜晶体管及其制作方法、修复方法和阵列基板，涉及显示技术领域，解决了薄膜晶体管经修复后不能正常工作，以及包括该薄膜晶体管的阵列基板经修复后像素单元成为暗点，影响阵列基板良品率的技术问题。该薄膜晶体管包括：栅极、栅极绝缘...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。