下载垂直MIM电容及其制造方法的技术资料

文档序号:9491212

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本发明公开了一种垂直MIM电容,包括:在绝缘层内形成的两个相互平行的凹槽,其中,一个凹槽的一侧壁与另一凹槽的一侧壁之间的绝缘层构成所述电容的绝缘层;两层金属层分别沿所述电容的绝缘层两侧端面自上而下经沟槽的底部和沟槽的另一侧壁一直延伸到所述凹...
该专利属于上海华虹NEC电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华虹NEC电子有限公司授权不得商用。

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