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本发明公开了一种TFT阵列基板制作方法及TFT阵列基板、显示设备，涉及液晶显示技术，在进行栅极层、栅绝缘层、有源层的图案制作时，依次沉积栅极层材料、栅绝缘层材料、有源层材料，通过一次构图实现栅极层、栅绝缘层、有源层的制作，节省了至少一次掩膜...
该专利属于北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。

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