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本发明提供了一种对较厚铁电薄膜实施应力工程用于材料改性的方法，通过采用磁控溅射在STO衬底上相继沉积LNO3底电极、PZT薄膜和CFO薄膜，并形成a、c电畴共存的PZT薄膜层。本发明提供的方法克服了现有技术的不足，操作方法简单，性能稳定，重...
该专利属于东华大学所有，仅供学习研究参考，未经过东华大学授权不得商用。

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