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一种互补型金属氧化物半导体管的形成方法,包括:提供包括相邻的第一区域和第二区域的半导体衬底,半导体衬底表面形成有绝缘层,分别贯穿第一区域绝缘层的第一开口和第二区域绝缘层的第二开口,且第一开口的底部和侧壁形成有第一功能层、与绝缘层表面齐平的第...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种互补型金属氧化物半导体管的形成方法,包括:提供包括相邻的第一区域和第二区域的半导体衬底,半导体衬底表面形成有绝缘层,分别贯穿第一区域绝缘层的第一开口和第二区域绝缘层的第二开口,且第一开口的底部和侧壁形成有第一功能层、与绝缘层表面齐平的第...