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本发明的目的是提供一种对于导电性高分子具有优越的蚀刻处理能力的导电性高分子用蚀刻液、及使用该导电性高分子用蚀刻液来将导电性高分子予以图案化的方法。本发明的图案化的方法使用如下的蚀刻液，即作为有效氯浓度为0.06重量％以上，并且pH值超过3且...
该专利属于东亚合成株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东亚合成株式会社授权不得商用。

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