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硅晶片的原子级平坦化表面处理方法及热处理装置制造方法及图纸
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下载硅晶片的原子级平坦化表面处理方法及热处理装置的技术资料
文档序号:9451638
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本发明为表面由单原子层的台阶形成有呈阶梯状的多个平台的硅晶片,在所述晶片中不存在滑移线。...
该专利属于国立大学法人东北大学所有,仅供学习研究参考,未经过国立大学法人东北大学授权不得商用。
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