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本发明涉及式(I)的化合物，其中R1是氢，低级烷基，卤素，被卤素取代的低级烷基，低级烷氧基，被卤素取代的低级烷氧基，氰基，硝基，C3-6-环烷基，-CH2-C3-6-环烷基，-O-CH2-C3-6-环烷基，-O-(CH2)2-O-低级烷基，...
该专利属于霍夫曼-拉罗奇有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过霍夫曼-拉罗奇有限公司授权不得商用。

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