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涂层导体Ni-5at.%W合金基带的电化学抛光方法技术
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下载涂层导体Ni-5at.%W合金基带的电化学抛光方法的技术资料
文档序号:9431274
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本发明涉及涂层导体Ni-5at.%W合金基带的电化学抛光方法,以Ni-5at.%W合金基带作为阳极,以纯镍片作为阴极,将Ni-5at.%W合金基带在静态下浸渍于电解抛光液中,开启电源对Ni-5at.%W合金基带进行抛光处理,抛光处理后的合金...
该专利属于上海化工研究院所有,仅供学习研究参考,未经过上海化工研究院授权不得商用。
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