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本发明公开了一种掺氟类金刚石薄膜、其制备方法以及包含该薄膜的压印模板，该薄膜沉积在基体表面上，薄膜中氟的质量含量为1%～4%；薄膜厚度为1～10nm。本发明公开的薄膜具有类金刚石薄膜的优点，同时具有优异的疏水、防粘性能以及与基体较好的粘接性...
该专利属于苏州锦元纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州锦元纳米科技有限公司授权不得商用。

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