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一种极紫外线曝光用掩膜的修正方法，确定在从所述吸收膜露出的所述保护膜的露出区域中的Mo/Si多层膜的缺陷位置，对于在俯视所述极紫外线曝光用掩膜时覆盖缺陷位置的范围，照射直径被缩小到极紫外线曝光光线的波长以下的光束，从而在极紫外线曝光用掩膜的...
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