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一种自由曲面灰度掩膜的设计方法，属于微制造技术领域。其特征是利用计算机辅助设计软件建立目标曲面模型的过程间接控制灰度掩膜上灰度单元透射率；利用计算机辅助制造中的刀路模拟对目标曲面模型进行曲面离散；利用计算机辅助制造中的刀路模拟间接控制灰度掩...
该专利属于大连理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工大学授权不得商用。

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