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本发明提供了一种光致抗蚀膜剥离剂组合物，其包括有机胺，二甘醇单烷基醚，非质子极性溶剂N，N-二甲基乙酰胺，防腐剂和水。其在剥离用于布图电子电路或显示元件金属布线的抗蚀膜的过程中，不腐蚀金属布线，且具有优秀的抗蚀膜剥离性。...
该专利属于杨桂望所有，仅供学习研究参考，未经过杨桂望授权不得商用。

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