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一种晶硅太阳能电池栅线的仿生制备方法，其步骤如下：配制仿生液相沉积镍膜所需的镍溶液和液相沉积铜栅线所需的铜溶液；将PN结电池片整片涂胶形成光刻胶膜，并将根据栅线的结构制定的掩模板覆盖在光刻胶膜上进行掩模，用紫外线光进行曝光，并显影得到光刻窗...
该专利属于夏洋所有，仅供学习研究参考，未经过夏洋授权不得商用。

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