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本实用新型公开了一种PECVD装置，包括工艺腔体，以及均设置在所述工艺腔体内的承载架、冷却均热板及至少一个反应室；所述均热为多个，沿竖直向呈层式排布安装至所述承载架；所述反应室水平设置在相邻两个均热之间，且各所述反应室的上下两侧均设置有所述...
该专利属于南方科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过南方科技大学授权不得商用。

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