一种PECVD装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种PECVD装置，包括工艺腔体，以及均设置在所述工艺腔体内的承载架、冷却均热板及至少一个反应室；所述均热为多个，沿竖直向呈层式排布安装至所述承载架；所述反应室水平设置在相邻两个均热之间，且各所述反应室的上下两侧均设置有所述均热。各反应室的上下两侧均设置有均热，通过均热的冷却均热和隔离作用，消除各反应室之间的热量辐射干扰，保证各反应室温度的一致性；同时冷却加热板具有冷却的作用的，避免工艺腔体温度过高，保护工艺腔体的密封结构，又使工艺腔体的温度不致过低，避免浪费加热的能源。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种PECVD装置，其特征在于，包括工艺腔体，以及均设置在所述工艺腔体内的承载架、冷却均热板及至少一个反应室；所述冷却均热板为多个，沿竖直向呈层式排布安装至所述承载架；所述反应室水平设置在相邻两个所述冷却冷却均热板之间，且各所述反应室的上下两侧均设置有所述冷却均热板。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何祝兵，王春柱，苏奇聪，
申请(专利权)人：南方科技大学，
类型：实用新型
国别省市：