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用于清洗基板的装置和方法制造方法及图纸
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文档序号:9296532
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本发明提供了一种制造半导体基板的装置和方法,更具体地,提供了一种清洗基板的装置和方法。基板清洗装置包括:第一处理室,在该第一处理室中通过在基板上提供处理溶液执行液体处理过程;第二处理室,在该第二处理室中在基板上执行干燥处理;以及传送单元,其...
该专利属于细美事有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过细美事有限公司授权不得商用。
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