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本发明公开了一种半导电釉的施釉工艺及其所使用的半导电釉料，工艺的步骤包括：按以下组份和各组份质量份备料：长石粉：20份～30份；石英粉：20份～30份；方解石：2份～6份；宽城土：8份～15份；TiO2：3份-6份；Fe2O3：15份～20...该专利属于湖南省醴陵市浦口电瓷有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南省醴陵市浦口电瓷有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种半导电釉的施釉工艺及其所使用的半导电釉料，工艺的步骤包括：按以下组份和各组份质量份备料：长石粉：20份～30份；石英粉：20份～30份；方解石：2份～6份；宽城土：8份～15份；TiO2：3份-6份；Fe2O3：15份～20...