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检测集成电路中的结构缺陷的电路、使用和制造方法以及设计结构技术
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文档序号:9202563
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本发明公开了检测电路、使用和制造方法以及设计结构。所述结构(25)包括穿过集成电路的一个或多个金属层(20)的至少一个信号线(30)。电路(35)与所述至少一个信号线耦合,该电路被构造为接收来自所述至少一个信号线的具有已知信号值(VDD)的...
该专利属于国际商业机器公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司授权不得商用。
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