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在纳米线侧壁生长量子点的复合纳异质结构的制备方法技术
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下载在纳米线侧壁生长量子点的复合纳异质结构的制备方法的技术资料
文档序号:9199237
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本发明公开了一种在纳米线侧壁生长量子点的复合纳异质结构的制备方法,涉及纳米工程领域。所述方法采用MOCVD设备,具体包括步骤:在衬底上沉积纳米金属颗粒或者金属薄膜,退火后形成纳米合金颗粒;以纳米合金颗粒作为催化物,沿与衬底相垂直的方向生长纳...
该专利属于北京邮电大学所有,仅供学习研究参考,未经过北京邮电大学授权不得商用。
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