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本发明提供一种溅射靶，其是含有铟(In)、镓(Ga)及锌(Zn)的氧化物的溅射靶，其中，含有ZnGa2O4所示的化合物及InGaZnO4所示的化合物。...
该专利属于出光兴产株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过出光兴产株式会社授权不得商用。

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