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本发明可利用溅射法形成不连续被膜。一种在真空槽内使衬底和靶相对，通过溅射法在前述衬底上进行成膜处理的成膜方法，将前述靶的表面温度控制为与常温相比成为规定温度以上，与未使前述靶的表面温度成为规定温度时相比，在前述衬底上形成高电阻的被膜。...
该专利属于芝浦机械电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过芝浦机械电子株式会社授权不得商用。

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