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采用N沟道和P沟道MOS晶体管的模拟浮动栅极存储器制造工艺制造技术
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下载采用N沟道和P沟道MOS晶体管的模拟浮动栅极存储器制造工艺的技术资料
文档序号:9144520
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本发明涉及集成电路中模拟浮动栅极电极及其制造方法,其中捕获的电荷可被长时间存储。该模拟浮动栅极电极在多晶硅栅极水平形成,其整个长度为n型掺杂,并包括用作n沟道和p沟道MOS晶体管的栅极电极的部分;金属-多晶硅存储电容器极板;和多晶硅-有源隧...
该专利属于德克萨斯仪器股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过德克萨斯仪器股份有限公司授权不得商用。
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