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用于传导垫的保护层及其形成方法技术
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下载用于传导垫的保护层及其形成方法的技术资料
文档序号:9144500
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本发明涉及用于传导垫的保护层及其形成方法。在一个实施例中,一种形成半导体器件的方法包括在衬底上方形成金属线以及在金属线的顶部表面上方沉积合金化材料层。该方法进一步包括通过将合金化材料层与金属线组合而形成保护层。...
该专利属于英飞凌科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过英飞凌科技股份有限公司授权不得商用。
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