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该发明涉及一种清洁CVD-反应器(1)的过程室(4)的方法，该过程室具有一个由加热装置(7)加热的基座(6)作为过程室底部(5)和一个与过程室底部(5)对置的过程室盖罩(3)，在CVD过程中在过程室底部(5)和过程室盖罩(3)上形成的寄生覆...
该专利属于艾克斯特朗欧洲公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克斯特朗欧洲公司授权不得商用。

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