下载一种提高高度的埋栅式金属化电极构造的技术资料

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一种提高高度的埋栅式金属化电极构造,包括硅片,所述硅片顶端设置有金属电极,金属电极底部与硅片之间设置有子层电极。本实用新型具有结构紧凑、可实施性强、误差性小等特点。其埋入底层的子层电极硬度较高,可以达到塑型的效果;金属电极可以起到增大表面流...
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