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气体阻隔性膜及电子器件制造技术
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文档序号:9088548
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本发明的目的在于提供气体阻隔性能、耐热性优异的气体阻隔性膜和使用了其的耐久性优异的电子器件。本发明在基材上按以下顺序具有通过物理蒸镀法或化学蒸镀法形成了的含有Si和N的第1气体阻隔层和涂布含有聚硅氮烷化合物的溶液而形成了的第2气体阻隔层,该...
该专利属于柯尼卡美能达株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过柯尼卡美能达株式会社授权不得商用。
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