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本发明系提供一种PECVD制程腔离子源扩散板装置，通过放置在离子源两侧的扩散板装置将离子化的气体向两侧扩散，致使在两极中的等离子体可均匀地向两侧扩散，增加薄膜沈积的面积，勿需将极板扩大的情况下，有效地增大等离子体沈积面积，对于设备制造成本及...
该专利属于吉富新能源科技(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过吉富新能源科技(上海)有限公司授权不得商用。

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