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本发明涉及一种TaVN复合涂层，其特征在于是在氮气与氩气的混合气体氛围下，以金属、硬质合金或陶瓷为基体，采用高纯Ta靶和高纯V靶共溅射，V元素的原子百分比为0～46.7at%且大于0，先在基片上沉积纯Ta层作为过渡层，然后再沉积1.5-2μ...
该专利属于江苏科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过江苏科技大学授权不得商用。

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