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本实用新型提供一种磁控溅射用磁场源装置,属于溅射镀膜设备技术领域。本实用新型的磁控溅射用磁场源装置,包括至少两个电磁铁,各个所述的电磁铁分别连接供电单元,所述的供电单元连接用于独立控制供电单元向各电磁铁的输出电流的控制单元。本实用新型的磁控...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。