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本发明提出一种隔离元件及其制造方法，隔离元件与高压元件共同形成于基板中。隔离元件包含：隔离井区，利用形成高压元件的微影制程与离子植入制程形成于基板中；栅极，形成于基板表面上；源极、漏极，分别位于栅极两侧的隔离井区中，且漏极与该源极由栅极隔开...
该专利属于立锜科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过立锜科技股份有限公司授权不得商用。

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