温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供氢氧化钴的制法、氧化钴的制法及钴酸锂的制法。本发明的目的在于得到平均粒径为5μm以上、二次颗粒的粒度分布窄、实质上不含粒径1μm以下的微粒成分的氢氧化钴和氧化钴。一种氢氧化钴的制造方法，其特征在于，该方法具有下述中和工序：将钴水溶...
该专利属于日本化学工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本化学工业株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。