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本实用新型提出一种晶圆清洗装置，包括清洗槽、与清洗槽连接的去离子水供应管和排水管以及向所述去离子水供应管供应氮气的氮气供应管，所述氮气供应管与所述去离子水供应管连接，将晶圆放置入充满氮气泡的去离子水的清洗槽中，借助氮气泡对晶圆表面颗粒的冲洗...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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