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本发明涉及一种用于存储材料的衬里，该衬里包括至少两层，其中，与材料接触的层是活性层。通过将清除剂结合到工作层中而使该层有活性。衬里的至少一层包括聚合物或含氟聚合物。在一些实施例中，活性层可以被构造为用于去除光致抗蚀剂中的微桥接组分。在一些实...
该专利属于高级技术材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过高级技术材料公司授权不得商用。

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