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本发明涉及有机发光领域，尤其是有机发光显示器制造过程中的剥离清洗工艺及其光刻返工工艺中使用的清洗剂。这种清洗剂用N-甲基吡咯烷酮、异丙醇与有机胺类溶液按照体积比为15：4：1~15：4：4混合而成，用这种有机发光微型显示器抗反射层清洗剂进行...该专利属于云南北方奥雷德光电科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过云南北方奥雷德光电科技股份有限公司授权不得商用。
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本发明涉及有机发光领域，尤其是有机发光显示器制造过程中的剥离清洗工艺及其光刻返工工艺中使用的清洗剂。这种清洗剂用N-甲基吡咯烷酮、异丙醇与有机胺类溶液按照体积比为15：4：1~15：4：4混合而成，用这种有机发光微型显示器抗反射层清洗剂进行...