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本发明公开一种表面清洁装置。该装置包括：一基板定位装置，以固定一待处理表面；一扫拂装置，以对该待处理表面作连续的扫拂；一移动装置，用以使该待处理表面与该扫拂装置作相对运动；及一流体清洁材料供应装置，以将一流体清洁材料供应到该扫拂装置的扫拂表...
该专利属于林进诚所有，仅供学习研究参考，未经过林进诚授权不得商用。

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