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本实用新型公开了一种离子束复合处理系统，所述离子束复合处理系统包括：真空室、混合离子束注入装置、磁控溅射靶和离子溅射源。本实用新型结合了磁控溅射和离子注入技术，具有气体离子注入、金属离子注入、离子复合注入的功能，适合于金属材料、光学膜、电导...
该专利属于杭州五源科技实业有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州五源科技实业有限公司授权不得商用。

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