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本实用新型提供一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统，所述供应系统至少包括：至少一个供应箱，每个供应箱具有至少一个入液口和出液口；设于所述供应箱外壁且与外壁接触的兆声波发生器；用于提供供应箱清洗液且与供应箱入液口相连接的清洗液供应...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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