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垂直扩散金属氧化物半导体场效晶体管及其制造方法技术
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文档序号:8983473
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一种垂直扩散金属氧化物半导体DMOS场效晶体管FET包括:具有第一传导类型的衬底(115),其形成漏极区;在所述衬底上的具有所述第一传导类型的外延层(110);在所述外延层内的具有所述第二传导类型的第一基极区(120)及第二基极区(125)...
该专利属于密克罗奇普技术公司所有,仅供学习研究参考,未经过密克罗奇普技术公司授权不得商用。
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