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本发明涉及一种等离子体加工装置，用于在基片连续加工设备中加工至少一个平坦的基片，其中该等离子体加工装置具有：至少一个基片承载电极，放置在该基片承载电极上的基片可以被输送通过该基片连续加工设备，并且该基片承载电极对接地电位是直流绝缘的；一个平...
该专利属于德国罗特·劳股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过德国罗特·劳股份有限公司授权不得商用。

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