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光掩模坯料、制造光掩模的方法、以及含铬材料膜技术
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下载光掩模坯料、制造光掩模的方法、以及含铬材料膜的技术资料
文档序号:8983272
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在本发明的含铬材料膜中,添加有能够使与铬的混合体系在400℃以下的温度下成为液相的元素。当将所述含铬材料膜用作可用于光掩模坯料中的光学膜(例如遮光膜、蚀刻掩膜、蚀刻停止膜)时,可在不依赖于特别膜设计的情况下,在维持常规含铬材料膜的光学特性等...
该专利属于信越化学工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。
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