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本发明涉及包含研磨剂和研磨促进剂的钨研磨用CMP浆料组合物，上述研磨剂包含分散在超纯水中的胶体硅,上述研磨促进剂包含过氧化氢水溶液、过硫酸铵及硝酸铁，上述浆料组合物不发生浆料变色问题，蚀刻选择比优异，可适用于CMP工艺。...
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